با توجه به مشکلات کاشتنیهای فلزی، مشاهده میشود که یکی از تکنیکهای اصلی در حل این مشکلات، بهبود خواص پوشش دهی کاشتنی میباشد. از پوششهایی که در دههی اخیر مورد توجه بوده است، پوششهای گرادیانی کلسیم فسفات دو فازی میباشد. از روش پاشش پلاسما جهت پوشش دهی ایمپلنتها اس چکیده کامل
با توجه به مشکلات کاشتنیهای فلزی، مشاهده میشود که یکی از تکنیکهای اصلی در حل این مشکلات، بهبود خواص پوشش دهی کاشتنی میباشد. از پوششهایی که در دههی اخیر مورد توجه بوده است، پوششهای گرادیانی کلسیم فسفات دو فازی میباشد. از روش پاشش پلاسما جهت پوشش دهی ایمپلنتها استفاده شده و سه لایه پوشش به ترتیب شامل HAp، TCP%50-HAp%50 و TCP به صورت گرادیانی بر روی زیر لایه تیتانیومی اعمال شد. جهت شناسایی فازها از آزمون پراش پرتوایکس استفاده شد. بررسی خوردگی لایههای اعمال شده با استفاده از محلول شبیهساز بدن انجام شد و برای بررسی میزان خوردگی پوشش اعمالی از آزمونهای الکتروشیمیایی پتانسیل مدار باز استفاده شد. جهت مشاهده مورفولوژی و ضخامت لایهها قبل و بعد از قرار گرفتن در محلول شبیهساز بدن از میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی استفاده شد. با توجه به نتایج آزمون خوردگی پتانسیل مدار باز ولتاژ خوردگی به ترتیب 07/0-، 09/0-و 19/0- ولت مربوط به نمونهی دارای یک لایه پوشش HAp، نمونهی بدون پوشش و نمونه دارای سه لایه پوشش HAp، TCP%50-HAp%50 و TCP به دست آمد. با قرارگیری پوشش سه لایه در محلول SBF تری کلسیم فسفات در لایه سوم و دوم بهطور کامل حل شده و با حضور یونهای کلسیم و فسفر به صورت اشباع در محلول SBF هیدروکسی آپاتیت ثانویه درون پوشش تشکیل شده است.
پرونده مقاله