شیشهسرامیکهای شفاف سیستم LAS را اصطلاحا شیشهسرامیکهای اپتیکی دقیق مینامند که در کاربردهایی نظیر فوتونیک، لیزرهای حالت جامد، تقویت کنندههای نوری و غیره استفاده میشوند. هدف از این پژوهش، بهینهسازی شرایط تبلور این نوع شیشهسرامیکها در حضور آلایندهی Nd2O3 میباشد. چکیده کامل
شیشهسرامیکهای شفاف سیستم LAS را اصطلاحا شیشهسرامیکهای اپتیکی دقیق مینامند که در کاربردهایی نظیر فوتونیک، لیزرهای حالت جامد، تقویت کنندههای نوری و غیره استفاده میشوند. هدف از این پژوهش، بهینهسازی شرایط تبلور این نوع شیشهسرامیکها در حضور آلایندهی Nd2O3 میباشد. بدینمنظور، آنالیز حرارتی افتراقی(DTA) برای بررسی رفتار حرارتی و تعیین دماهای تبلور، آنالیز پراش اشعهی X برای بررسی بلورهای ایجاد شده، آنالیز ریزساختاری با استفاده از SEM برای بررسی ریزساختاری نمونهها و آنالیز اسپکتروسکوپی UV-Vis برای بررسی میزان شفافیت شیشهسرامیکها مورد استفاده قرار گرفتند. نتایج این پژوهش نشان میدهد که با روش تبلور کنترلی میتوان در حضور 5/0% Nd2O3 شیشهسرامیک شفاف تولید کرد.
پرونده مقاله
هدف از این پژوهش بررسی پایداری نانوذرات SiC بهمنظور پوششدهی بر روی کامپوزیت کربن ـ کربن به روش EPD میباشد. بدین منظور سوسپانسیونهایی در حلالهای مختلف و در حضور پراکندهساز PEI تهیه شدند. پایداری سوسپانسیونها توسط تصاویر ماکروسکوپی تهیه شده از آنها پس از گذشت 24 چکیده کامل
هدف از این پژوهش بررسی پایداری نانوذرات SiC بهمنظور پوششدهی بر روی کامپوزیت کربن ـ کربن به روش EPD میباشد. بدین منظور سوسپانسیونهایی در حلالهای مختلف و در حضور پراکندهساز PEI تهیه شدند. پایداری سوسپانسیونها توسط تصاویر ماکروسکوپی تهیه شده از آنها پس از گذشت 24 ساعت و اندازهگیری پتانسیل زتا و توزیع اندازه ذرات مورد بررسی قرارگرفت. در ادامه پوشش مورد نظر از سوسپانسیون بهینه بر روی زیر لایه اعمال شد. نتایج نشان داد که سوسپانسیون تهیه شده در اتانول، در pH=10 و در حضور 6 درصد وزنی PEI پایداری بهتری دارد. همچنین تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) نشان داد که پوشش اعمال شده در ولتاژ 30 ولت کیفیت بهتری داشته و دارای سطح یکنواخت و بدون حفره میباشد.
پرونده مقاله