در این پژوهش، پس از پوششدهی نانوذرههای مگنتیت با ZnO و TiO2 به روش سل/ژل سعی شد تا تشکیل ساختار و ویژگی مغناطیسی نانوذرههای هسته/پوسته دو جزیی و سه جزیی با روش پراش پرتو ایکس (XRD)، میکروسکوپ الکترونی عبوری (TEM) و مغناطیسسنج ارتعاشی (VSM) بررسی شد. رفتار فتوکاتالیس چکیده کامل
در این پژوهش، پس از پوششدهی نانوذرههای مگنتیت با ZnO و TiO2 به روش سل/ژل سعی شد تا تشکیل ساختار و ویژگی مغناطیسی نانوذرههای هسته/پوسته دو جزیی و سه جزیی با روش پراش پرتو ایکس (XRD)، میکروسکوپ الکترونی عبوری (TEM) و مغناطیسسنج ارتعاشی (VSM) بررسی شد. رفتار فتوکاتالیستی در تخریب متیلن به لو در گستره صفر تا 120 دقیقه تحت تابش نور خورشید با طیفسنج مرئی/فرابنفش ثبت شد. تغییرات با استفاده از طیف فتولامینسانس (PL) و سطح ویژه بهدست آمده با دستگاه جذب/واجذب نیتروژن (BET) بررسی شد. نتایج بهدست آمده نشان داد کهmg/ml 10 نانوذرههای هسته/پوسته بیش از 90 % از مولکولهای متیلن به لو را در مدت زمان 120 دقیقه تحت تابش نور خورشید تخریب کردهاند. اما افزایش تعداد پوستهها سبب تغییر نوع نیمرسانا از نوع مستقیم به غیرمستقیم میشود که به دنبال آن فصل مشترک ناهمگن رفتار فتوکاتالیستی را تضعیف میکند.
پرونده مقاله