در این تحقیق، پوشش‌‌دهی ذرات فوتوکاتالیستی تیتانیا بر روی کامپوزیت مغناطیسی SrFe12O19/SiO2 با موفقیت به روش سل- ژل انجام پذیرفت. بدین منظور، ابتدا ذرات هگزا فریت استرانسیم به عنوان هسته مغناطیسی سخت در این کامپوزیت، به روش هم‌رسوبی با استفاده از نسبت‌‌های مولی Fe3+/Sr2+، 11 و 12 و سپس انجام کلسیناسیون در دماهای مختلف تهیه گردید. دیده شد که ذرات تک‌فاز بلور هگزا فریت استرانسیم با بهره‌گیری از نسبت مولی Fe3+/Sr2+=12 و پس از کلسیناسیون در دمای 950 درجه سانتی‌‌گراد به دست می‌آیند. در مرحله بعدی، پوشش‌دهی سیلیس با استفاده از پیش ماده تترا اتیل اورتو سیلیکات (TEOS) و به روش استوبر انجام شد. در مرحله نهایی، پوشش‌‌دهی تیتانیا بر روی کامپوزیت SrFe12O19/SiO2 با استفاده از پیش‌ماده تیتانیم n-بوتوکساید (TNBT) حاصل گردید. کامپوزیت‌های تهیه شده با استفاده از الگوی پراش پرتو ایکس (XRD)، میکروسکوپ الکترونی روبشی نشر میدانی (FESEM)، میکروسکوپ الکترونی عبوری (TEM)، طیف‌سنجی پراش انرژی پرتو ایکس (EDX) و مغناطیس‌سنج ارتعاشی (VSM) مشخصه‌یابی شدند. نتایج، ساختار هسته/ پوسته/ پوسته کامپوزیت SrFe12O19/SiO2/TiO2 را تأیید نمود. آنالیز خواص مغناطیسی نشان داد که مغناطش اشباع (Ms) پودر هگزا فریت استرانسیم به صورت emu/g 58 به دست آمده است که بر اثر پوشش‌‌دهی پی‌‌در‌‌پی پوشش‌‌های SiO2 و TiO2 ، این مقدار به ترتیب به emu/g 56 و emu/g 37 رسید. تفاصيل المقالة

در این پژوهش نانوکامپوزیت‌های  Fe3O4/SiO2/TiO2-Agبا ساختار هسته- پوسته در چند مرحله تهیه شدند. ابتدا ذرات اکسید آهن به روش احیای کربن سنتز شدند. سپس کامپوزیت Fe3O4/SiO2 با استفاده از پیش ماده تترااتیل اورتوسیلیکات (TEOS) از طریق فرآیند سل-ژل سنتز شد. در ادامه لایه TiO2 با استفاده از پیش ماده تترابوتیل اورتوتیتانات (TBOT) به طور مستقیم بر روی سیلیکا پوشش داده شد و در نهایت ذرات نقره با استفاده از فرآیند شیمیایی تر بر روی لایه تیتانیا (TiO2) قرار گرفتند. نانوکامپوزیت‌های تهیه شده با استفاده از آنالیزهای میکروسکوپ الکترونی روبشی محیطی (FESEM)، میکروسکوپ الکترونی عبوری (TEM)، آنالیز پراش اشعه ایکس (XRD) مشخصه یابی شدند. نتایج حاکی از آن بود که لایه‌نشانی در هر مرحله به طور موفقیت آمیزی انجام شده است و نانو کامپوزیت‌های Fe3O4/SiO2/TiO2-Ag با ساختار هسته-پوسته تشکیل شدند. اندازه ذرات اکسید آهن به طور میانگین 400-300 نانومتر بوده و پس از لایه نشانی سیلیکا تقریباً 450-400 نانومتر شدند و در نهایت پس از قرارگیری لایه تیتانیا، اندازه ذرات نهایی به 480-450 نانومتر به‌دست آمد. همچنین نتایج خواص مغناطیسی با استفاده از مغناطیس­سنج ارتعاشی (VSM) نشان داد که خاصیت مغناطیسی نانوکامپوزیت‌های Fe3O4/SiO2/TiO2-Ag در مقایسه با ذرات اولیه Fe3O4 کم‌تر شده است که به دلیل حضور لایه‌ها بر روی ذرات اولیه است. تفاصيل المقالة

فوتوکاتالیست مغناطیسی Fe3O4/SiO2/ZnO به روش سل- ژل سنتز شد. بدین منظور، در مرحله اول ذرات Fe3O4 به عنوان هسته‌ مغناطیسی این کامپوزیت و با به کارگیری از روش احیای کربن تهیه شد. در مرحله دوم پوشش‌دهی پوسته SiO2 با استفاده از پیش ماده تترا اتیل اورتو سیلیکات (TEOS) انجام شد. در پایان پوسته اکسید روی با استفاده از پیش ماده نیترات روی هیدراته بر روی کامپوزیت Fe3O4/SiO2 قرار گرفت. نانوساختارهای تهیه شده با استفاده از آنالیزهای میکروسکوپ الکترونی روبشی محیطی (FESEM)، میکروسکوپ الکترونی عبوری (TEM)، الگوی پراش پرتو ایکس (XRD)، آنالیز خواص مغناطیسی (VSM) و طیف سنجی پراش انرژی پرتو ایکس (EDX) مشخصه یابی شد. نتایج FESEM و TEM، پوشش‌دهی سیلیس و اکسید روی را بر روی ذرات هسته تایید کرد و فوتوکاتالیست مغناطیسی Fe3O4/SiO2/ZnO با موفقیت تهیه شد. میانگین اندازه ذرات Fe3O4به طور تقریبی 300 نانومتر به دست آمد. ضخامت پوسته‌ سیلیس به طور تقریبی 25 نانومتر و ضخامت پوسته اکسید روی در حد چند نانومتر به دست آمد. نتایج VSM نشان داد که پوشش‌دهی پوسته سیلیس و اکسید روی سبب کاهش مغناطیس اشباع (Ms) پودر Fe3O4 شده است به طوری که مغناطش اشباع از emu/g 80 به emu/g 8/48 کاهش یافته است که این مقدار جهت بازیابی مغناطیسی مناسب است. خواص فوتوکاتالیستی کامپوزیت Fe3O4/SiO2/ZnO تحت تابش نور UV و بر روی تخریب متیلن نارنجی مورد بررسی قرار گرفت. تخریب متیلن نارنجی، 70% به دست آمد. تفاصيل المقالة