بررسی سنتز ذرات نانوساختار سیلیکات روی (Zn2SiO4) با فرآیند سل- ژل

الموضوعات : نانومواد

داوود بارانی ¹ (تهران- دانشگاه تربیت مدرس- گروه مهندسی مواد، دانشکده فنی و مهندسی)
رسول صراف ماموری ² (تهران- دانشگاه تربیت مدرس- گروه مهندسی مواد، دانشکده فنی و مهندسی)
مهرداد کوکبی ³ (تهران- دانشگاه تربیت مدرس- گروه مهندسی مواد، دانشکده فنی و مهندسی)

تاريخ الإرسال : 28 السبت , ذو الحجة, 1439 تاريخ التأكيد : 28 السبت , ذو الحجة, 1439 تاريخ الإصدار : 05 الأحد , ذو الحجة, 1430

الکلمات المفتاحية: فوتوکاتالیست, نیترات روی, ذرات نانوساختار Zn2SiO4, تترا اتیل اکسی سیلان, فرآیند سل-ژل,

ملخص المقالة :

در این تحقیق ذرات نانوساختار سیلیکات روی با فرآیند سل- ژل از پیش ماده های تترا اتیل اکسی سیلان و نیترات روی سنتز شدند. با آنالیز های DTA از ژل و XRD از ژل کلسینه شده تغییرات ساختاری در دماهای مختلف بررسی شدند. نتایج XRD تشکیل ساختارهای آمورف و تشکیل فاز کریستالی Zn2SiO4 را با افزایش دمای کلسیناسیون نشان دادند. با توجه به الگوی XRD از نمونه های کلسینه شده در دماهای 800 و 900 درجه سانتیگراد و روش شرر به ترتیب اندازه دانه‌ها 13 و 27 نانومتر به دست آمد. همچنین آنالیز حرارتی مواد اولیه در دماهای کم پیک های گرماگیر تبخیر حلال و تجزیه فازهای آلی و در دمای بالا پیک گرمازای تشکیل فاز Zn2SiO4را نشان داد. علاوه بر این تصاویر SEM نشان دادند که تفاوت بین اندازه ذرات فاز آمورف و فاز کریستالی ناچیز است و محدوده آن بین 50 تا 400 نانومتر می‌باشد. همچنین آزمون اسپکتروسکوپی UV نیز برای بررسی خواص فوتوکاتالیستی نتایج قابل قبول نشان داد.