فهرست مقالات آب گریز

• دسترسی آزاد مقاله
  • صفحه چکیده
  • متن کامل
  
  1 - مروری بر غشاهای نانوصافش بستر مختلط بر‎پایه پلی سولفون و پلی اترسولفون/ نانوذرات کربنی
  نادر غلامی حسین مهدوی
  باوجود‎آنکه فناوری غشایی نسبت به روش های متداول جداسازی، دارای مزایایی مانند توانایی حذف بالا، انعطاف پذیری عملیات، اثربخشی بهتر در جداسازی است، ولی گرفتگی محدودیت اصلی در به‎کارگیری بیشتر فناوری غشایی است که دلیل اصلی آن آب گریزی ذاتی مواد سازنده غشا است. برای چکیده کامل

  باوجود‎آنکه فناوری غشایی نسبت به روش های متداول جداسازی، دارای مزایایی مانند توانایی حذف بالا، انعطاف پذیری عملیات، اثربخشی بهتر در جداسازی است، ولی گرفتگی محدودیت اصلی در به‎کارگیری بیشتر فناوری غشایی است که دلیل اصلی آن آب گریزی ذاتی مواد سازنده غشا است. برای غلبه بر این اشکال از غشاهای نانوچندسازه استفاده می شود. در بین فرایندهای غشایی، نانوصافش (NF) کاربردهایی در تصفیه انواع آب‎های زیرزمینی و سطحی، تصفیه پساب و پیش عملیات نمک زدایی دارد. از آنجا که فرایند NF در فشار پایین تری انجام می شود، از دید مصرف انرژی فرایندی بسیار با صرفه تر است. در این مقاله مروری، اصلاح غشاهای پلی سولفون/پلی اترسولفون در رابطه با عملکرد ضدگرفتگی و سازوکار کاهش گرفتگی برپایه روش‎های متفاوت اصلاح غشا بررسی شده است. این بررسی نشان می‎دهد که آب‎دوستی در سطح غشا پلی‎سولفون/پلی اترسولفون بهبود می یابد. همچنین، مطالعه‎ای جامع در باره ساخت غشاهای نانوچندسازه ای به‎دست آمده از به‎کارگیری نانوذرات در غشا بسپاری بستر مختلط، ویژگی و کاربرد آن ها با پرکننده های آلی (مانند گرافن و نانولوله کربنی) انجام شده است. روش های شناسایی به‎کارگرفته‎شده برای غشاهای اصلاح شده نیز موردبررسی قرارگرفته است. پرونده مقاله
• دسترسی آزاد مقاله
  • صفحه چکیده
  • متن کامل
  
  2 - سنتز و آماده سازی نانو پوشش‌های آب گریز سیلیکا به روش سل-ژل- غوطه وری
  هانیه محمدزاده لیلا ترکیان مریم دقیقی اصلی
  این مقاله روشی جدید جهت تهیه نانو پوشش سیلیکا آب گریز بر روی سطوح شیشه‌ای در دمای اتاق، با استفاده از تترامتوکسی سیلان (TMOS) به عنوان پیش ماده و اکتا دسیل تری کلرو سیلان (OTS) به عنوان عامل اصلاح کننده سطح به روش غوطه وری را توصیف می‌کند. با تغییر نسبت مولی OTS/TMOS، و چکیده کامل

  این مقاله روشی جدید جهت تهیه نانو پوشش سیلیکا آب گریز بر روی سطوح شیشه‌ای در دمای اتاق، با استفاده از تترامتوکسی سیلان (TMOS) به عنوان پیش ماده و اکتا دسیل تری کلرو سیلان (OTS) به عنوان عامل اصلاح کننده سطح به روش غوطه وری را توصیف می‌کند. با تغییر نسبت مولی OTS/TMOS، ویژگی آب گریزی سطح متناسب با پوشش دهی، تغییر می‌کند. بهترین عملکرد پوششی با استفاده از واکنشگرهای MeOH ،TMOS ،OTS ،NH3 با نسبت مولی به ترتیب 8 : 1/4 : 1 : 14/8 به‌دست آمد. زاویه تماس آب با سطح شیشه آب گریز شده با استفاده از این مواد در حدود 132 درجه تعیین شد. اندازه ذرات نانوپوشش مذکور به روش اندازه گیری DLS در حدود 2 تا 29 نانومتر تخمین زده شد. نتیجه‌های تجربی نشان دادند که نانوپوشش‌های سیلیکای آب گریز، ویژگی آب گریزی خود را تا دمای 200 حفظ کرده، اما در دماهای بالاتر از آن به تدریج این ویژگی را از دست می‌دهند. افزون بر اندازه گیری زاویه تماس و توزیع اندازه ذرات، نانو پوشش‌های تهیه شده با دستگاه‌های FT-IR ،UV-Vis و TEM نیز مورد بررسی و شناسایی قرار گرفتند. به کارگیری TMOS و OTS در کنار یکدیگر برای تهیه نانو پوشش آبگریز و دست‌یابی به زاویه تماس 132 درجه قطره آب با سطح شیشه، نواوری این کار پژوهشی است. پرونده مقاله