اثر محلول‌پاشی اسیدسالیسیلیک، سیلیکات پتاسیم و الیسیتور قارچی در شرایط تنش شوری بر گیاه همیشه ‌بهار (Calendula officinalis L.)

محورهای موضوعی : فیزیولوژی گیاهی

نرگس حسینی فر ¹ (کارشناس‌ارشد، دانشکده کشاورزی و منابع طبیعی، واحد علوم و تحقیقات، دانشگاه آزاد اسلامی، تهران، ایران،)
وحید عبدوسی ² (گروه علوم باغبانی ، دانشکده کشاورزی و منابع طبیعی ، واحد علوم تحقیقات ، دانشگاه آزاد اسلامی ، تهران ، ایران)
وحید زرین نیا ³ (استادیار، گروه بیماری‌شناسی گیاهی، دانشکده کشاورزی و منابع طبیعی، واحد علوم و تحقیقات، دانشگاه آزاد اسلامی، تهران، ایران،)

تاریخ دریافت : 1396/08/18 تاریخ پذیرش : 1396/11/18 تاریخ انتشار : 1396/11/01

کلید واژه:

چکیده مقاله :

چکیده به منظور بررسی تأثیر اسید سالیسیلیک، سیلیکات پتاسیم و الیسیتور قارچی در گیاه همیشه بهار در شرایط تنش شوری آزمایشی بصورت فاکتوریل و در قالب طرح تصادفی با سه سطح شوری (600-300-0 پی پی ام) و سه سطح تیماری، اسید سالیسیلیک، سیلیکات پتاسیم و الیسیتور قارچی (900-600-300 پی‌پی ام) در 3 تکرار انجام شد. صفاتی چون حجم ریشه، قطر ریشه، تعداد و ارتفاع برگ، هیدروژن پر اکسید و آنزیم کاتالاز اندازه‌گیری شد. نتایج نشان داد، بیشترین میزان هیدرون پر اکسید در تیمار سیلیکات پتاسیم با غلظت 300 پی پی ام به میزان 68/77 نانومول بر گرم وزن‌تر مشاهده گردید. بیشترین مقدار آنزیم کاتالاز در شوری 600 پی پی ام به میزان 00584/0 میلی گرم پروتئین در دقیقه حاصل شد. میانگین تعداد برگ در تیمار سیلیکات پتاسیم از سایر تیمارها بیشتر بوده است. کمترین قطر ریشه در بستر با شوری 600 پی پی ام در غلظت 300 پی پی ام الیسیتور قارچی پنیسیلیوم با مقدار 61/0 میلی متر دیده شد. در غلظت 900 پی پی ام در بستر بدون شوری بیشترین قطر ریشه با مقدار 08/1 میلی متر مشاهده شد.