فهرس المقالات Indium tin oxide

• حرية الوصول المقاله
  • صفحة الملخص
  • نص كامل
  
  1 - Structural and morphological properties of ITO thin films grown by magnetron sputtering
  Z. Ghorannevis E. Akbarnejad M. Ghoranneviss
  10.1007/s40094-015-0187-3
  AbstractPhysical properties of transparent and conducting indium tin oxide (ITO) thin films grown by radiofrequency (RF) magnetron sputtering are studied systematically by changing deposition time. The X-ray diffraction (XRD) data indicate polycrystalline thin films wit أکثر

  AbstractPhysical properties of transparent and conducting indium tin oxide (ITO) thin films grown by radiofrequency (RF) magnetron sputtering are studied systematically by changing deposition time. The X-ray diffraction (XRD) data indicate polycrystalline thin films with grain orientations predominantly along the (2 2 2) and (4 0 0) directions. From atomic force microscopy (AFM) it is found that by increasing the deposition time, the roughness of the film increases. Scanning electron microscopy (SEM) images show a network of a high-porosity interconnected nanoparticles, which approximately have a pore size ranging between 20 and 30 nm. Optical measurements suggest an average transmission of 80 % for the ITO films. Sheet resistances are investigated using four-point probes, which imply that by increasing the film thickness the resistivities of the films decrease to 2.43 × 10−5 Ω cm. تفاصيل المقالة
• حرية الوصول المقاله
  • صفحة الملخص
  • نص كامل
  
  2 - طراحی و بهینه سازی ساختار مدولاتور پلاسمونیکی مبتنی بر ماده فعال ITO وگرافن
  عباس اسلامی مجتبی صادقی زهرا عادل پور
  در یک دهه اخیر مدارهای مجتمع نوری مانند مدولاتورها، پیشرفت چشم گیری در زمینه‌های مختلف مانند مخابرات نوری، تصویربرداری و سنسور داشته‌اند. از میان مواد فعال مورد استفاده در مدولاتورها، گرافن و اکسید قلع آلاییده با ایندیم (ITO) به‎سبب ویژگی اپسیلون نزدیک به صفر (ENZ)، أکثر

  در یک دهه اخیر مدارهای مجتمع نوری مانند مدولاتورها، پیشرفت چشم گیری در زمینه‌های مختلف مانند مخابرات نوری، تصویربرداری و سنسور داشته‌اند. از میان مواد فعال مورد استفاده در مدولاتورها، گرافن و اکسید قلع آلاییده با ایندیم (ITO) به‎سبب ویژگی اپسیلون نزدیک به صفر (ENZ)، سرعت و پاسخ‎دهی قابل توجه که دارند، یکی از گزینه‌های مناسب در بین مواد فعال برای عمل مدولاسیون است. در این مقاله، با اعمال تزویج مستقیم نور به طراحی ساختار مدولاتور پلاسمونیکی در حالت سه بعدی پرداخته شده است. با تغییرات ضخامت لایه‌های ITO، اکسید هافنیوم (HfO2) و عرض موج بر ساختار بهینه شده که ضخامت‌های بهینه 3 نانومتر برای لایه ITO، 5 نانومتر برای HfO2 و 280 نانومتر برای عرض موج بر به دست آمده است. نتایج شبیه‎سازی‌های سه بعدی این مقاله همراه با تزویج مناسب نشان داده شده که تلفات الحاقی در حالت سه بعدی نسبت به دو بعدی تغییر پیدا نکرده و پارامتر نسبت خاموشی مدولاتور اندکی کاهش یافته است. از سویی تزویج مناسب و بهینه، تاثیری در انرژی مصرفی نداشته است. نتایج شبیه‎سازی‌های سه بعدی نشان دهنده این است که مدولاتور پلاسمونیکی می‌تواند برای طول 1 میکرومتر مدولاتور، در ولتاژ 5/0 ولت و طول موج 55/1 میکرومتر به نسبت تمایز 9/13 دسیبل، تلفات الحاقی 9/2 دسیبل، سرعت مدولاسیون 9/140 گیگاهرتز و مصرف انرژی بسیار کم 5/1 فمتو ژول بر بیت دست پیدا کند و نشان دهنده کاهش قابل توجه در مصرف انرژی و بهبود نسبت تمایز نسبت به مدولاتورهای مشابه پیشین است. همچنین در طول 2 میکرومتر مدولاتور، نسبت تمایز 76/27 دسیبل، تلفات الحاقی 68/5 دسیبل، سرعت مدولاسیون 14/70 گیگاهرتز و مصرف انرژی برابر با 88/2 فمتو ژول بر بیت به دست آمده است. تفاصيل المقالة