بررسی فعالیت فتوکاتالیتیکی TiO2/SiO2 و V2O5/ TiO2/SiO2 در تخریب منو و دی کلروبنزن

محورهای موضوعی : شیمی تجزیه

سودابه غریبه ¹ (دانشگاه آزاد اسلامی- واحد فیروز کوه)
لیلا وفائی ² (دانشگاه آزاد اسلامی- واحد فیروز کوه)

تاریخ دریافت : 1390/12/01 تاریخ پذیرش : 1391/02/01 تاریخ انتشار : 1391/03/01

کلید واژه: تیتانیم دی اکسید, منو کلرو بنزن, دی کلرو بنزن, فتوکاتالیست, آلاینده‌های زیست محیطی,

چکیده مقاله :

نانو فتوکاتالیست‌های TiO2/SiO2 و V2O5/ TiO2/SiO2 به روش سل- ژل تهیه شده‌اند.,XRD SEM ,FT-IR و UV-Vis برای بررسی ساختار و ویژگی‌های فتوکاتالیست‌ها استفاده شده‌اند. اندازه ذرات با استفاده از معادله شرر 7nm به دست آمده است. نتایج XRD و FT-IR حضور V2O5، TiO2 و SiO2 را تایید می‌کنند. به منظور بررسی و مقایسه فعالیت فتوکاتالیستی TiO2/SiO2 و V2O5/ TiO2/SiO2 تخریب نوری منو و دی کلرو بنزن در محیط آبی تحت تابش نور فرابنفش و مرئی انجام شد. کاهش غلظت منو و دی کلرو بنزن با استفاده از طیف سنجی UV-Vis مورد بررسی قرار گرفت. نتایج این تخریب نشان دهنده این است که در نور مرئی V2O5/ TiO2/SiO2 در مقایسه با TiO2/SiO2 فعالیت فتوکاتالیستی بهتری دارد.

منابع و مأخذ:

[1] M. A. Fox, M. T. Dulay, Chem. Rev. 93 (1993) 341-357.
[2] Y.Zhang, G.Xiong, N.Yao, W.Yang, X.Ful, Catal.Today.68, 89; 2001.
[3] S.Watson, D.Beydoun, R.Amal, J.Photochem.Photobio. A: Chem. 148, 303; 2002.
[4] S.S.Hong, M.S.Lee, S.S.Park, G.D.Lee, Catal.Today. 8, 99; 2003.
[5] C.S.kim, B.K.Moon, J.H.Park, S.T.Chung, S.M.Son, J.Crystal Growth.254, 405; 2003.
[6] C.H.Kwon, J.H.kim, I.S.Jung, H.Shin, K.H.Yoon, Ceram.Inter. 29, 851; 2003.
[7] R.A.Aziz, I.Sopyan, Indian.J.Chem. 48A (2009) 951-957.
[8] C-H. kwon, J-H. kim, I-S. Jung, H. Shin, K-H. Yoon, Ceram. Inter. 29 (2003) 851-856.
[9] X. Fu, S. Qutubuddin, colloids and Surfaces A: Phisicochem and Engineering Aspects. 178 (2001)151-156.
[10] P. Wilhem D Stephan, J Photochem. Photobiology 185 (2008) 10-25.
[11] K. C. Cho, K. C. Hwang, T. Sano, K. Takeuchi, S. Matsuzawa, J. Photochem. Photobiology A: Chem 161 (2004) 155-161.
[12] P. Novotna, J. Zita, J. Krysa, V. Kalousek, J. Rathousky, Appl. Catal. B: Environmental 79 (2007) 179-185.
[13] L. Shaw, D. Goberman, R. Ren, M. Gell, S. Jiang, Y. Wang, T. Xiao, R. Struts, Surf. Coat. Technol.130 (2000) 1-8.
[14] A. Bellifa, D. Lahcene, Y. N. Tchenar, A. Choukchou-Braham, R. Bachir, S. Bedran, C. Kappenstein, Appl. Catal. B: General 305 (2006) 1–6.
[15] G. J. Fang, Z. L. Liu,Y. Q. Wang, H. H. Liu, K.L. Yao, J.. Phys. D: Appl. Phys. 33 (2000) 3018-3021.
[16] D. L. Pavia, G. M. Lampman, G. S. Kris,"Introduction to Spectroscopy",Department of Chemistry Western Washington University Bellingham Washington.