تهیه فیلم نازک اکسید روی با روش کندوپاش پلاسمایی و مطالعه تغییرات خواص الکتریکی، ساختاری و مورفولوژی آن با دوزهای مختلف تابش گاما

محورهای موضوعی : نانومواد

سارا نوبخت ¹ , ربابه طالب‌زاده ² , صمد سبحانیان ³ , حمید نقش‌آرا ⁴ , محمد کوهی ⁵

1 - گروه فیزیک، واحد تبریز، دانشگاه آزاد اسلامی، تبریز، ایران
2 - گروه فیزیک، واحد تبریز، دانشگاه آزاد اسلامی، تبریز، ایران
3 - دانشکده فیزیک، دانشگاه تبریز، تبریز، ایران
4 - دانشکده فیزیک، دانشگاه تبریز، تبریز، ایران
5 - گروه فیزیک، واحد تبریز، دانشگاه آزاد اسلامی، تبریز، ایران

تاریخ دریافت : 1401/08/12 تاریخ پذیرش : 1401/08/12 تاریخ انتشار : 1401/08/01

کلید واژه: مورفولوژی, اکسید روی, پرتو گاما, خصوصیات الکتریکی و ساختاری, اسپاترینگ پلاسمایی,

چکیده مقاله :

فیلم‌های نازک نانوساختاری اکسید روی با ضخامت حدود nm ۱۵۰ با روش اسپاترینگ پلاسمایی برای سه دمای مختلف زیرلایه استیلی و درصدهای مختلف ترکیب اکسیژن و گاز کاری آرگون تهیه گردیده و نمونه‌های مختلف تحت تابش پرتوهای گاما Co60 قرار داده شدند. تغییرات در طیف پراش پرتو اشعه X (XRD)، مقاومت ویژه و به تبع آن هدایت الکتریکی و مورفولوژی سطح برای دوزهای مختلف پرتو گاما از Gy ۵۰ تا Gy ۲۰۰۰ بررسی و مورد تحقیق قرار گرفته‌اند. با اینکه وابستگی خصوصیات الکتریکی و مورفولوژی فیلم‌های نازک با میزان دوز تابشی گاما، درصد ترکیب‌های گاز کاری و دماهای زیرلایه بسیار پیچیده است با این حال برای بعضی از دوزهای گاما تغییرات در فاز ساختاری، مقاومت ویژه و اندازه نانودانه‌های نشانده شده روی زیرلایه استیل به وضوح قابل ملاحظه هستند.